0
Áttörés a félvezetőgyártásban: 30 nanométernél kisebb struktúrákat rajzolt az IBM
2006. február 20. 14:21
Jelentős áttörésről számolt be az IBM a félvezetőgyártás területén, a kutatóinak ugyanis sikerült 29,9 nanométer széles csíkokat rajzolniuk egy szilíciumlemezre, mégpedig egy 193 nanométeres hullámhosszú fényt használó litográfiai berendezéssel. Korábban általánosan elterjedt nézet volt az iparban, hogy a hagyományos optikai litográfiai eljárások már nem lesznek alkalmasak a 32 nanométeresnél kisebb csíkszélességű alkatrészek előállításához.