0
Intel: zökkenőmentes a 0,13 mikronos gyártástechnológiára történő átállás
2001. július 26. 21:46
[SBNews] Amint arról korábban beszámoltunk, több elemző is aggodalmát fejezte ki amiatt, hogy a Silicon Valley Group által az Intelnek szállítandó 193 nm-es argon- fluorid litográfiai eszközök késése okán a tervezettnél lassabb mértékben halad majd a cég számára létfontosságú 0,13 mikronos gyártástechnológia bevezetése. Tegnap azonban egy San Joséban tartott sajtótájékoztatón az Intel szóvivői elmondták, hogy a késés nincs hatással az új technológia alkalmazásának menetrendjére.