Szerző: Asztalos Olivér

2019. október 8. 14:57

Féltve őrzött fejlesztést mutatott az Intel

A darabonként több millió dollárba kerülő fotomaszkoknak kritikus szerepük van a gyártásban.

Publikus végre az AI engineering demo day teljes felvétele!

Az eseményen 3 különböző területen dolgozó csapat mutatta meg élőben, hogyan is használják az AI-t.

Publikus végre az AI engineering demo day teljes felvétele! Az eseményen 3 különböző területen dolgozó csapat mutatta meg élőben, hogyan is használják az AI-t.

A félvezetőgyártók által jellemzően féltve őrzött fejlesztés mutatott meg az Intel. A chipgyártó 14 nanométeres csíkszélességéhez készített fotomaszkot a levilágítási folyamat egyik lépcsőjénél alkalmazzák, kvázi sablonként. A wafert a gyártás során fényérzékeny anyaggal kezelik, majd a 6x6 hüvelykes fotomaszkon keresztül megvilágítják, így alakítva ki a kívánt áramköröket. Egyetlen maszk ára technológiától függően több millió dollárba is kerülhet, a modern, több menetes levilágítás alkalmazó csíkszélességeknél pedig nem ritka, hogy 60-90 darab ilyen komponensre is szükség van, amely akár százmillió dollár feletti kiadást is jelenthet.

3:02

Intel Mask Operation: An Inside Look at a Critical Manufacturing Step

Lorem ipsum dolor sit amet, consectetur adipisicing elit. Doloribus consectetur eaque tempore natus obcaecati ratione ipsum.

Még több videó
a címlapról