:

Szerző: Asztalos Olivér

2019. október 8. 14:57

Féltve őrzött fejlesztést mutatott az Intel

A darabonként több millió dollárba kerülő fotomaszkoknak kritikus szerepük van a gyártásban.

Kafka és CI/CD alapozó online képzéseket indít a HWSW!

Ősszel 6 alkalmas, 18 órás Kafka és CI/CD alapozó képzéseket indít a HWSW. Most early bird kedvezménnyel jelentkezhetsz!

Kafka és CI/CD alapozó online képzéseket indít a HWSW! Ősszel 6 alkalmas, 18 órás Kafka és CI/CD alapozó képzéseket indít a HWSW. Most early bird kedvezménnyel jelentkezhetsz!

A félvezetőgyártók által jellemzően féltve őrzött fejlesztés mutatott meg az Intel. A chipgyártó 14 nanométeres csíkszélességéhez készített fotomaszkot a levilágítási folyamat egyik lépcsőjénél alkalmazzák, kvázi sablonként. A wafert a gyártás során fényérzékeny anyaggal kezelik, majd a 6x6 hüvelykes fotomaszkon keresztül megvilágítják, így alakítva ki a kívánt áramköröket. Egyetlen maszk ára technológiától függően több millió dollárba is kerülhet, a modern, több menetes levilágítás alkalmazó csíkszélességeknél pedig nem ritka, hogy 60-90 darab ilyen komponensre is szükség van, amely akár százmillió dollár feletti kiadást is jelenthet.

3:02

Intel Mask Operation: An Inside Look at a Critical Manufacturing Step

Lorem ipsum dolor sit amet, consectetur adipisicing elit. Doloribus consectetur eaque tempore natus obcaecati ratione ipsum.

Még több videó

Áprilisi, minden munkavállaló számára kötelező, laza jogi hallgatmányunk után itt a második, befejező rész. Nem kell megijedni, informatív és hasznos lesz ez is! Ennyi a minimum, amit munkavállalóként illik tudnod.

a címlapról