0
Az IBM is magas k-együtthatójú dielektrikumot és fém kapuoxidot vezet be
2008. április 15. 14:19
Az IBM vezette (egyik) félvezetőipari technológiai szövetség, amelynek tagja a Chartered Semiconductor, a Freescale, az Infineon, a Samsung, az STMicroelectronics és Toshiba, magas k együtthatójú dielektrikumot és fémből készült kapuelektródát alkalmaz majd a 32 nanométeres gyártástechológiájában, melyet alacsony feszültségű áramkörök gyártására optimalizáltak.