Áttörést ért el az EUV-litográfiában az ASML
A chipgyártó üzemek kapacitásának jelentős növelését segítheti elő a holland ASML által most bejelentett áttörés, melynek eredményeként a korábbinál jelentősen nagyobb mennyiségű szilíciumostyát lesznek majd képesek megmunkálni a levilágítóberendezések az évtized végére.
Az évtized végére jelentős mértékben felturbózhatja a fejlett félvezető áramköröket gyártó üzemek gyártási kapacitását a holland ASML technológiai áttörése, melynek alapját a levilágítóberendezésekben használt fényforrások teljesítményének növelése adja.
A Reuters exkluzív tudósítása szerint az extrém ultraibolya (EUV) litográfiai gépek jelenleg használt 600 watt teljesítményű fényforrását a mérnököknek sikerült stabilan 1 kilowattra emeleniük, a nagyobb teljesítmény pedig közvetlenül gyorsabb gyártási folyamatot tesz lehetővé.
A vállalat illetékes alelnöke, Teun van Gogh szerint a becslések alapján az újítással a gépek a jelenlegi 220 helyett 2030-ra óránként akár 330 szilíciumostyát is képesek lesznek majd megmunkálni, ami egységnyi idő alatt nagyjából 50%-os kapacitásbővülést eredményezhet az olyan, az ASML eszközeit használó chipgyártóknál, mint a TSMC, a Samsung vagy éppen az Intel.
AI: a technológiai robbanás állva hagyta a munkaerőpiacot A technológiai változás sebességét sem a hazai cégek, sem az IT munkaerőpiac nem tudja lekövetni. Az eseményhorizontról azonban már nincs visszafordulás.
A várakozások szerint ez egyszersmind az egy chip előállítására levetített költségeket is lejjebb tornászhatja majd, mely a fenti gyártók számára gazdaságosabb termelést hozhat.
Az ASML gépei (és más, EUV levilágítók) a legkomplexebb, ember által alkotott eszközök közé tartoznak. Gyártásukat, összeszerelésüket és működésüket komplett mérnökcsapatok koordinálják, egy-egy ilyen berendezés ára pedig elérheti a több százmillió dollárt.
Az eszközök a gyártás során egy 13,5 nanométeres hullámhosszú fénysugárral "rajzolják rá" az áramköröket a szilíciumostyákra, melyeket aztán egy későbbi gyártási fázis során a tesztelést követően feldarabolnak és az így kapott egységeket tokozzák.
Ennek a sugárnyalábnak az előállításához a gépek másodpercenként több tízezer óncseppet hevítenek fel lézerrel plazmaállapotúra, melyek extrém ultraibolya sugárzást bocsátanak ki magukból. A folyamat részeként ezt egy komplex lencserendszer összegyűjti és a megmunkáláshoz használt fénynyalábbá formálja.
Az ASML mérnökeinek a fenti áttörést egyrészt az óncseppek számának megemelésével (másodpercenként akár százezerre), illetve a hevítéshez használt lézersugár duplázásával sikerült elérniük. A cég szerint a mostani teljesítménynövelés megnyithatja az utat a következő fokozatok felé, melyek 1,5 vagy 2 kilowattos EUV-sugárnyalábbal dolgozó levilágítógépekben testesülhetnek meg.