Tíz év múlva 1,4 nanométeren gyártana az Intel
Az Intel gyártástechnológia útitervét részletezte a vállalat egyik kiemelt beszállítója, az ASML. A levilágítóberendezéseket tervező és gyártó holland cég szerint partnere 2029-ben mutathatja be 1,4 nanométeres csíkszélességét, amelyet egy 2, 3, 5, illetve a 2021-re ígért 7 nanométeres node előzhet meg.
Mindeközben az Intel megtartja a "+" jelölésű optimalizációkat is, így tompítva a kockázatot, vagyis az esetleges csúszások következményeit. Az egyelőre kissé futurisztikusnak hangzó 1,4 nanométeres eljárás még kezdetleges, kutatási fázisban van, így vélhetően még az Intel sem tudja, hogy pontosan milyen tranzisztorral, illetve egyéb technológiákkal ugorja majd meg a kihívást.
Nyerd meg az 5 darab, 1000 eurós Craft konferenciajegy egyikét! A kétnapos, nemzetközi fejlesztői konferencia apropójából a HWSW kraftie nyereményjátékot indít.
Az egyelőre csak papíron létező 1,4 nanométer vélhetően GAA (Gate-All-Around), vagyis nanohuzal-tranzisztorokra épül majd, amelyek előállításához új, 2D-s önszerveződéses anyagokat. Egy lépcsővel előrébb jár a 3 nanométeres eljárás, a 2025-re datált node ugyanis már az útkeresés fázisánál tart, vagyis a kutatás befejeződött. A 2023-ra ígért 5 nanométert már definiálta az Intel, a főbb paramétereket, illetve az eljárás alapjait lefektette a tervezőcsapat, így hónapokon vagy legfeljebb 1-1,5 éven belül megkezdődhet a fejlesztés.
A szükséges plusz
A bérgyártók (TSMC, Samsung) 5 nanométerével nagyjából egyenértékű 7 nanométeres csíkszélesség munkálatai előrehaladott állapotban vannak, melynek hála nagyjából másfél év múlva, 2021 második felében megkezdődhet a tömegtermelés. Ezzel párhuzamosan a továbbra is lassú felfutást produkáló 10 nanométerét amolyan B tervként továbbfejleszti a gyártó arra az esetre, ha a 7 nanométerrel bármilyen probléma adódna. Jövőre érkezhet a 10++, 2021-ben pedig a 10+++, amelyekkel már talán le lehet váltani a csúcsra járatott 14 nanométert.
Hasonló megfontolásból a jövőbeni csíkszélességeket is optimalizálja majd az Intel, így a 7 nanométerből is készül majd 7+ és 7++ variáns. A gyártó ehhez igazítja a chiptervező részleg működését is, melynek hála egy esetleges nem várt problémánál az egyes dizájnokat némi kompromisszummal ugyan, nagyobb csíkszélességen is le lehet majd gyártani. Erre az első példát a Rocket Lake adhatja, mely a pletykák szerint a 10++ nanométerre tervezett Willow Cove magot kínálja majd a magas órajelre képes 14++ eljáráson, valamikor 2021-ben. Az optimalizációk a jövőbeni új eljárásokban is visszaköszönnek, a 7 nanométer ugyanis a 10++-ra épít, az 5 nanométer kiindulása alapját pedig a 7+ adhatja.
A munkálatok minél simább lefolyásáért némileg rendhagyó módon kívülről szerződtetett szakembert a vállalat. Dr. Gary Patton az Intel kedvéért a GlobalFoundries technológiai igazgatói székét hagyta ott, amelyet 2015-óta foglalt el. Az iparági veterán az IBM chipgyártó részlegének felvásárlásával került a GloFo kötelékébe, ezt megelőzően közel 30 évet húzott le a Nagy Kéknél. Patton munkája elsősorban a gyártástechnológia fejlesztések, a kihozatal, a teljesítmény, illetve az ütemterv megtartásának összehangolásáról fog szólni.