Szerző: Bodnár Ádám

2006. június 12. 13:29:55

Orrhosszal előzi 45 nanométeren az Intelt a Texas Instruments?

A Wall Street Journal információi szerint a Texas Instruments 45 nanométeres gyártástechnológiával az Intel hasonló eljárásához képest mintegy 30 százalékkal kisebb memóriacellák állíthatók elő. Az új gyártástechnológiával az alkatrészek fogyasztása akár 40 százalékkal is leszorítható, ami jelentősen megnövelheti a rájuk épülő berendezések, például a mobiltelefonok akkumulátoros üzemidejét.

[HWSW] A Wall Street Journal információi szerint a Texas Instruments 45 nanométeres gyártástechnológiával az Intel hasonló eljárásához képest mintegy 30 százalékkal kisebb memóriacellák állíthatók elő. Az új gyártástechnológiával az alkatrészek fogyasztása akár 40 százalékkal is leszorítható, ami jelentősen megnövelheti a rájuk épülő berendezések, például a mobiltelefonok akkumulátoros üzemidejét.

Noha a TI memóriacellái jelentősen kisebbek mint az Intelé, mégsem jelenthető ki egyértelműen a dallasi cég technológiai fölénye a kaliforniai chipgyártóval szemben. A TI által legyártott alkatrészek túlnyomó többsége ugyanis mobil eszközökbe kerül, ahol a helyszűke és minél hosszabb akkumulátoros üzemidő érdekében elsődleges fontosságú a kis méret és az alacsony fogyasztás, az Intel ugyanakkor zömmel processzorokat gyárt, ahol a számítási teljesítmény a legfontosabb tényező. Ezért mindkét cégnek kompromisszumokat kell kötnie, a TI-nak a teljesítmény, az Intelnek a fogyasztás és hőtermelés, illetve a fizikai méret terén.

A Texas Instruments által legyártott 45 nanométeres SRAM memóriacellák mérete 0,24 négyzetmikron, ezzel szemben az Intel szintén 45 nanométeres eljárásával 0,34 négyzetmikron méretű SRAM-cellák készültek. A világ legnagyobb chipgyártója ugyanakkor már több mint egymilliárd tranzisztort is tartalmazó áramkört is készített a saját 45 nanométeres technológiájával, bizonyítva, hogy az eljárás hatékonyan alkalmazható lesz a tömegtermelésben, akár egészen nagyméretű alkatrészek legyártásához. A Texas Instruments egyelőre adós egy ilyen demonstrációval.

A Texas Instruments a gyártás során már immerziós (merítéses) litográfiát használ. Az immerziós litográfia lényege, hogy a szilíciumlemezen egy folyadékréteg segít a fénysugár fókuszálásában és a minták rajzolásában. A Texas Instruments mellett több jelentős chipgyártó, köztük a Samsung, az IBM, és a TSMC is az immerziós litográfiában látja a jövőt, az Intel azonban 45 nanométeres csíkszélességű alkatrészeit még "szárazon" világítja, csak a 2009 körül bevezetésre kerülő 32 nanométeres eljárásban áll át a merítéses technológiára.

a címlapról