Sínen van a TSMC 5 nanométere
A TSMC 5 nanométeres technológiájára épülő első lapkadizájnok már kísérleti gyártásban vannak.
Jól halad a TSMC jövő évre datált, 5 nanométeres technológiájának fejlesztése, amely a közelmúltban a kísérleti gyártás fázisába lépett - közölte a tajvani bérgyártó. A szóban forgó fejlesztés egyik sajátossága, hogy azzal a lapkadizájnok akár összes rétegét EUV, vagyis extrém ultraibolya fénnyel dolgozó eljárással világítják le. Ennek hála jelentős előrelépés várható a már tavaly óta tömegtermelésben lévő 7 nanométerhez képest. A tervek szerint jelentősen, akár 80 százalékkal nőhet a tranzisztorsűrűség, ami azonos tranzisztorszámmal kalkulálva 45 százalékkal kisebb területű chipeket jelenthet. Fogyasztás, illetve a tranzisztorteljesítmény tekintetében már jóval kisebb lesz az ugrás, hisz előbbinél 20, utóbbinál pedig 15 százalékos lehet a javulás dizájntól függően.
Nyerd meg az 5 darab, 1000 eurós Craft konferenciajegy egyikét! A kétnapos, nemzetközi fejlesztői konferencia apropójából a HWSW kraftie nyereményjátékot indít.
Az 5 nanométer (CLN5FF) lesz a TSMC első "igazi" EUV-s eljárása. Technológiájánál a bérgyártó szélesebb körben veti be az egyelőre gyerekcipőben járó EUV-t. Korábbi hírek szerint az egyes chipdizájnoknál igénytől függően már akár 14 rétegét is az extrém ultraibolya fénnyel rajzolhatnak meg a gyártósorok. Ez annak tükrében lehet nagy előrelépés, hogy a vállalat első EUV-s fejlesztése, az idei év második felére datált CLN7FF+ csak a gyártási folyamat egy kis részénél, a nem kritikus rétegeknél veti be az extrém ultraibolya fényt. Ily módon kordában tarthatóak a költségek, illetve csökkenthető a meglehetősen magas rizikó.
Az 5 nanométeres chipek termeléséhez már egy dedikált gyárkomplexumot épít a tajvani vállalat. A Fab 18-as üzem felállítása összesen nagyjából 17 milliárd dollárt emészt majd fel. Ebből többek között nagyjából 160 000 négyzetméternyi tisztaszobát húz fel a vállalat, a komplett gyárkomplexum pedig 950 000 négyzetméteren terül majd el. Előbbi közel 60, utóbbi pedig nagyjából 120 százalékkal haladja meg a hasonló kapacitásra képes Fab 15 paramétereit. A tetemes eltérés oka, hogy a modernebb gyártástechnológiához szükséges különféle eszközök (pl. EUV levilágító) a megszokottnál jellemzően sokkal nagyobb helyigénnyel rendelkeznek. A tömegtermelés a Fab 18 megnyitásával, 2020 második negyedévében indulhat meg.
A csíkszélességre első körben várhatóan az Apple épít majd, így a jövő ősszel érkező iPhone-okba jó eséllyel már 5 nanométeres alkalmazásprocesszor kerül.