Szerző: Bodnár Ádám

2006. február 16. 16:54

A Nikon leszállította a világ első immerziós litográfiai berendezését

A Nikon bejelentette, hogy leszállította a világ első immerziós (merítéses) litográfiai berendezését, amely tömegtermelésben alkalmazható. A Nikon NSR-S609B nevű készülék 193 nanométeres hullámhosszúságú fényt használ.

[HWSW] A Nikon bejelentette, hogy leszállította a világ első immerziós (merítéses) litográfiai berendezését, amely tömegtermelésben alkalmazható. A Nikon NSR-S609B nevű készülék 193 nanométeres hullámhosszúságú fényt használ.

Mérfölkő

A litográfiai (levilágító) berendezések relatív lassú fejlődése jelentősen hátráltatja a csíkszélesség csökkentését, a chipgyártóknak különféle trükköket kell használnia annak érdekében, hogy a kisebb csíkszélességű lapkákhoz továbbra is fel tudják használni már meglévő, méregdrága berendezéseket. Jelenleg iparágszerte a 193 nanométeres hullámhosszúságú fénnyel működő készülékek terjedtek el, ezek azonban csak rendkívüli nehézségek mellett használhatók a 65 nanométeresnél kisebb csíkszélességű chipek létrehozására.

E probléma egyik megoldása lehet az immerziós litográfia, amelynek lényege, hogy a szilíciumlemezen egy folyadékréteg segít a fénysugár fókuszálásában és a minták rajzolásában. Több jelentős chipgyártó, köztük a Samsung, az IBM, a Texas Instruments és a TSMC is az immerziós litográfiában látja a jövőt, ezzel szemben az Intel bejelentése szerint még a 45 nanométeres chipjeinek gyártásához is 193 nanométeres "száraz" litográfiai eszközeit alkalmazza. A litográfiai eszközök vezető gyártói -- ASML, Nikon, Canon -- egyaránt dolgoznak immerziós technológián alapuló berendezéseken. Az ASML a hírek szerint márciusban szállítja le első ilyen készülékét.

De ki a vevő?

A Nikon mai bejelentése jelentős mérföldkő a chipgyártás történetében. Hogy a történelmi jelentőségű litográfiai berendezést ki vásárolta meg, arról a Nikon nem adott tájékoztatást, azonban az iparban járatos hírforrások szerint a Toshiba volt megrendelő. A Toshiba már korábban jelezte, hogy 55 nanométeres csíkszélességű NAND flash memóriáinak sorozatgyártásához immerziós litográfiát használ majd.

Egyes feltételezések szerint a Nikon NSR-S609B a Toshiba Japánban található, 300 milliméteres wafereket megmunkáló gyárába került, ahol jelenleg 90 nanométeres chipek készülnek, de hamarosan bevezetik a 70 nanométeres csíkszélességet. A Nikon szerint az általa szállított berendezéssel sorozatban gyárthatók 55 nanométeres csíkszélességű memóriachipek, illetve megkezdhető a 45 nanométeres alkatrészek gyártásához szükséges technológia kifejlesztése.

Mik azok a sötét mintázatok, vagy ahogy az angol nevezi őket, dark patternek? Miért találkozunk egyre többször velük és mit tehetünk, hogy ne kerüljünk a csapdájukba?

a címlapról