Intel: zökkenőmentes a 0,13 mikronos gyártástechnológiára történő átállás

[SBNews] Amint arról korábban beszámoltunk, több elemző is aggodalmát fejezte ki amiatt, hogy a Silicon Valley Group által az Intelnek szállítandó 193 nm-es argon- fluorid litográfiai eszközök késése okán a tervezettnél lassabb mértékben halad majd a cég számára létfontosságú 0,13 mikronos gyártástechnológia bevezetése. Tegnap azonban egy San Joséban tartott sajtótájékoztatón az Intel szóvivői elmondták, hogy a késés nincs hatással az új technológia alkalmazásának menetrendjére.

Az SVG-nek az eredeti megállapodás szerint még áprilisban kellett volna az Intelnek átadnia a szükséges litográfiai berendezéseket, ám akkor a szállítást júliusra tolták ki. Azonban a múlt héten a cég azt jelezte, hogy újabb három-négy hónapra van szüksége az eszközök leszállítására, ami azt jelenti, hogy október előtt azok nem állnak majd az Intel rendelkezésére.

Az Intel szóvivője viszont elárulta, hogy az SVG berendezéseit nem a 0,13 mikronos, hanem a majd 2003-ban esedékes 0,10 mikronos szilíciumostyák gyártásakor fogják felhasználni. Ezt megerősíteni látszik az is, hogy már piacon vannak a 0,13 mikronos csíkszélességgel készülő Tualatin magos Pentium III processzorok, valamint hogy egyes alaplapgyártók már rendelkeznek a Pentium 4 Northwood core-ra épülő változataival is.