Az Intel a 0,13 mikronos gyártástechnológia kapujában

[Electronic Buyers News] Az Intel ma bejelentette, hogy lezárultak a 0,13 mikronos csíkszélességű félvezetőgyártás megkezdéséhez szükséges kutatások. Ezt demonstrálandó a cég bemutatott olyan chipeket és SRAM cellákat, amelyek az új gyártástechnológiával készültek.

A tömeggyártás megkezdődése azonban még hosszú ideig várat magára. Az első gyár, amely 0,13 mikronos technológiával állít elő processzorokat az oregoni FAB 20 lesz, de a többi üzemben csak 2001 második felében indul meg a termelés.

Az új gyártástechnológia alkalmazása lehetővé teszi a processzorok és felvezetők teljesítményfelvételének, hőleadásának és lapkaméretének csökkentését, a tranzisztorok számának növelését, és a működési feszültség readikális visszaszorítását. Előzetes becslések szerint a 0,13 mikronos technológiával készített mikroprocesszorok 1,3V feszültséget igényelnek majd.

Az Intel új gyártástechnológiája lehetőséhet ad rézalapú áramkörök elkészítésére is. Eddig csak az AMD drezdai gyárából kerültek ki rézalapú x86 processzorok, de 2001-től az Intel is képes lesz ilyen chipek előállítására.