Az Intel újabb üzemében indult be a 65 nanométeres chipek gyártása
Megnyitotta harmadik olyan chipgyárát az Intel, ahol 65 nanométeres csíkszélességű alkatrészek készülnek. Az írországi Leixlipben található Fab 24-2 üzem az első olyan európai félvezetőgyár, ahol 65 nanométeres technológiával zajlik a tömegtermelés, az AMD drezdai létesítményeiben még csak bevezetés és tesztelés folyik. A vállalat emellett kijelentette, hogy jó úton halad a következő generációs, 45 nanométeres eljárás 2007-es bevezetése felé.
Az írországi gyárban a 65 nanométeres technológia bevezetése közel 2 milliárd dollárt emésztett fel. A világ legnagyobb félvezetőgyártójának processzor-termelése már többségében 65 nanométeres csíkszélességgel zajlik, a 65 nanométeres wafer startok száma már felülmúlja a 90 nanométeresekét. Leixlipben a lapkákat 300 milliméteres waferek feldolgozásával készítik, a félvezetőgyártás bonyolultságára jellemző, hogy az első szilíciumszeletek 3 hónapja kezdték meg utazásukat a gyártósorokon. Az Intel még az arizonai Chandlerben és az oregoni Hillsboróban gyárt 65 nanométeres chipeket, mindkét helyen 300 millimétere waferek felhasználásával.
Az Intel által fejlesztett 65 nanométeres félvezetőgyártási technológia többek között magában foglal a korábbinál nagyobb teljesítményű és alacsonyabb fogyasztású tranzisztorokat, második generációs "feszített szilíciumot", nagy sebességű rézalapú átkötéseket és kis k-együtthatójú dielektrikummal történő szigetelési technológiát. Az eljárás nyolcrétegű félvezető alkatrészek előállítását teszi lehetővé 300 milliméter átmérőjű szilíciumszeleteken.
Paul Otellini, az Intel elnök-vezérigazgatója az esemény kapcsán elmondta, hogy az Intelen kívül egyelőre egyetlen vállalat sem alkalmazza tömegtermelésben a 65 nanométeres technológiát.