Mellékleteink: HUP | Gamekapocs
Keres
Felhőből visszaköltözéstől egészen egy banki malware evolúciójáig. Üzemeltetői és IT-biztonsági meetupokkal érkezünk!

Új chipgyárat épít Írországban az Intel

Bodnár Ádám, 2004. május 20. 11:14
Ez a cikk több évvel ezelőtt születetett, ezért előfordulhat, hogy a tartalma már elavult.
Frissebb anyagokat találhatsz a keresőnk segítségével:

hirdetés
Mary Harney
Mary Harney
Az Intel tegnap, részvényeseinek éves gyűlésén bejelentette, hogy 1,7 milliárd euró értékben új chipgyárat épít az írországi Leixlipben. Az új üzemben a tervek szerint 2006-ban indulhat be a 65 nanométeres csíkszélességű alkatrészek sorozatgyártása. Az Intel 2 milliárd dolláros befektetése mellett az ír kormány támogatását is élvezni fogja.

"Írország szoros versenyben volt más helyszínekkel e befektetésért és az Intel döntése azt bizonyítja, hogy Írország világszintű helyszín a műszaki beruházásokhoz" -- mondta Mary Harney, Írország miniszterelnök-helyettese. Az Intel 1989-ben hozta létre írországi leányvállalatát, amely azóta 4,5 milliárd eurót költött a leixlipi üzem felépítésére és korszerűsítésére. A Fab 24 az Intel egyedüli európai chipgyára, összesen mintegy 4700-an dolgoznak itt.

Az Intel tavaly november végén jelentette be, hogy hillsboroi (Oregon, USA) D1D félvezetőgyártó üzemében 65 nanométeres csíkszélességű technológia felhasználásával működőképes SRAM chipeket gyártott. Az új, P1264 kódnevű, 65 nanométeres félvezetőgyártási technológia többek között magában foglal a korábbinál nagyobb teljesítményű és alacsonyabb fogyasztású tranzisztorokat, második generációs "feszített szilíciumot", nagy sebességű rézalapú átkötéseket és kis k-együtthatójú dielektrikummal történő szigetelési technológiát. A P1264 nyolcrétegű félvezető alkatrészek előállítását teszi lehetővé 300 milliméter átmérőjű szilíciumszeleteken.

A P1264 technológiával gyártott tranzisztorok kapuhossza mindössze 35 nanométer. Az Intel állítása szerint 2005-ben ezek lesznek a legkisebb és legnagyobb teljesítményű tranzisztorok, amelyeket sorozatgyártásban alkalmaznak. A jelenlegi tömegtermelésben alkalmazott legfejlettebb, 90 nanométeres Intel-technológia segítségével 50 nanométeres kapuhossz érhető el. A 130 nanométeres csíkszélességű Pentium 4 "Northwood" processzort felépítő tranzisztorok kapuhossza 60 nanométer.

A 65 nanométeres csíkszélességű alkatrészek gyártásához az Intel számos már meglevő, 193 nanométeres hullámhosszúságű litográfiai berendezést fel tud használni, ami jelentősen csökkenti a gyártási költségeket. Az Intel várhatóan a 45 nanométeres csíkszélességű alkatrészek fotómaszkjait is részben vagy egészben 193 nanométeres litográfiai berendezésekkel tervezi előállítani.

4-4 klassz téma a HWSW júniusi üzemeltetői és IT-biztonsági meetupjain. Nézz meg a programot!