Az Infineon, az AMD és a DuPont együttműködik a félvezetőgyártás korszerűsítésében

Az Infineon Technologies AG, az Advanced Micro Devices (AMD) és a DuPont Photomasks ma közös sajtóközleményben jelentették be, hogy a jövőben együttműködnek egy haladó fotómaszk-technológiák fejlesztésére szakosodott drezdai kutatóközpont létrehozásában. A három cég a beruházás finanszírozására és üzemeltetésére Advanced Mask Technology Center GmbH & Co. KG (AMTC) néven egyenlő tulajdonhányadú közös vállalatot hoz létre.

Az AMD drezdai gyárának litográfiai berendezései (Fotó: Sven Döring, AMD)

A Drezdában 360 millió eurós beruházással létrehozandó létesítmény 17 500 négyzetméternyi hasznos területtel rendelkezik majd, és az Infineon, valamint az AMD helyi gyárainak közvetlen közelében épül fel. A beruházás befejezése a tervek szerint 2003 elején várható. Amint az építési munkálatok véget érnek, az AMD és a DuPont Photomasks felszereli a létesítményt a szükséges berendezésekkel, ahol 2003 második felében megkezdődhet a kutatómunka.

Az AMTC előre láthatóan 170 szakembert foglalkoztat majd, akik a három vállalat félvezetőgyártás során szerzett tapasztalatait felhasználva közösen dolgoznak a 95, 60, illetve annál kisebb nanométeres gyártástechnológiákhoz szükséges litográfiai maszkok fejlesztésén.