Intel: itt a 10 nanométer, hol a 10 nanométer?
Ellentmondó hírek keringenek az Intel hányattatott sorsú gyártástechnológiájáról. Mi lehet az igazság?
Törölte belső útitervéből 10 nanométeres gyártástechnológiáját az Intel - állítja a jellemzően jól értesült SemiAccurate. A magazin szerint a gyártó elkaszálta a hányattatott sorsú, alaphangon 1 éves (mások szerint inkább 2-3 éves) késésben lévő eljárást. A csúszás fényében nem lenne meglepő a hír, melyet azonban az Intel még melegében cáfolt egy nyúlfarknyi Twitter bejegyzésben. Az ellentmondás dacára mindkét félnek igaza lehet, korábbi pletykák szerint ugyanis a gyártó egy átdolgozott, szerényebb paraméterekkel bíró gyártástechnológián dolgozik, amit a kvázi konkurensek egyre szabadabb nevezéktanának megfelelően változatlanul 10 nanométerként aposztrofál majd, de az azonos név már teljesen más paramétereket takar.
Utóbbi híresztelést egyelőre nem kommentálta az Intel, az Ice Lake kódnevű processzorok jövőre esedékes piacra kerüléséig pedig vélhetően nem is derül majd ki a pontos igazság. Az azonban egyre valószínűbb, hogy P1274/P1275 (CPU/SoC optimalizált) jelölés alatt fejlesztett eljárás a piacra került néhány maréknyi kétmagos "Cannon Lake" Core i3-8121U processzort leszámítva nem köszön majd vissza további termékekből. Ennek okára az említett termék is válasszal szolgál, a chip ugyanis viszonylag szerény órajelekkel rendelkezik, ám ami ennél meglepőbb, hogy a lapkába integrált grafikát teljesen lekapcsolta az Intel. Egyes értesülések alapján ennek oka, hogy a minden eddiginél magasabb tranzisztorsűrűségre képes eljárásnak nem feküdt a GPU áramköre, amely problémára jobb híján a komplett grafikus egység letiltásával volt kénytelen reagálni az Intel.
A diákon még jól mutatott
Ezzel kapcsolatban még az azóta leköszönt Brian Krzanich is megszólalt. A továbbra sem pótolt szakember áprilisban bevallotta, hogy túllőttek a célon a 10 nanométer specifikációval, az eljáráshoz párosított elvárások túl agresszívnek bizonyultak, melyeket a fejlesztőcsapat képtelen volt teljesíteni. Krzanich elmondása szerint a 10 nanométerhez 2,7-es skálázódási tényezőt határozott meg a cég, vagyis ennyivel nő a tranzisztorsűrűség a 14 nanométerhez képest. Ez agresszívabb, mint korábban, a 14 nanométer például csak 2,4-es tényezőt hozott, a versenytársak pedig sokkal lazább, 1,5-2 körüli tényezőkkel dolgoznak. Márpedig az igencsak ambiciózus megközelítés már 14 nanométeres is nehézségeket okozott, és bár Mark Bohr, az Intel gyártástechnológiai fejlesztésekért felelős vezetője ígérte, hogy tanultak a problémákból, jelen állás szerint nem sikerült megugrani a tömegtermeléshez szükséges szintet.
Nagy pénz, nagy szívás: útravaló csúcstámadó IT-soknak Az informatikai vezetősködés sokak álma, de az árnyoldalaival kevesen vannak tisztában.
A problémák a lehető legrosszabbkor jöttek, ugyanis a TSMC és a Samsung a milliárdnyi okostelefonos lapkából befolyt gigászi profitnak hála rákapcsolt a fejlesztésekkel. Előbbi vállalat már tízmilliós volumenben termeli a Apple A12-es lapkákat, és bár a chipekhez használt 7 nanométer főbb paramétereiben valamelyest elmarad az Intel 10 nanométerétől, a fejlesztés a tajvani bérgyártó forgalmának már bő 10 százalékát szolgáltatja. Eközben a konkurens Samsungnál szintén beindult a 7 nanométeres tömegtermelés, a dél-koreai bérgyártó az iparágban elsőként vetette be az EUV levilágítási eljárást, amely rövid és hosszabb távon egyaránt előnyt jelenthet.
Meghalt a 10 nanométer, éljen a 10 nanométer!
Bár közvetlenül sem a TSMC, sem pedig a Samsung nem jelent veszélyt az Intel termékeire, a konkurens AMD és Nvidia egyaránt épít a bérgyártók élvonalbeli technológiáira. Előbbi már hónapokkal ezelőtt megerősítette, hogy a Ryzen harmadik, illetve az Epyc második generációja a tajvani bérgyártó 7 nanométeres eljárására épül, mindkét fejlesztés jövő év második felében kerülhet piacra. Az Intelnek többek között ezért sincs vesztegetni való ideje, a pár éve még rendkívül kényelmes helyzetben lévő vállalat kénytelen ütős válasszal készülni a korábban már többször eltemetett versenytárs terveire. Ennek egyik kvázi melléktermékre lehet a második nekifutásra készülő 10 nanométer, amely vélhetően a kukázott eljárás szerényebb paraméterekkel bíró, gyengébb kiadása lesz. Arról egyelőre pletykák sincsenek, hogy az Intel mekkora kompromisszumot kötött az elfogadható kihozatal eléréséhez, a már említett bérgyártós fejlesztések miatt azonban a korábbinál kisebb a mozgástér, túlságosan meglazított paraméterekkel ugyancsak előnybe kerülhetnének a konkurensek.