Az Intel 20 millió dollárral támogatja az extrém ultraviola litográfia fejlődését
Az Intel bejelentette, hogy az elkövetkező három év során 20 millió dollár tőkeinjekcióval segíti a Cymer vállalatot annak érdekében, hogy felgyorsítsa az extrém ultraviola litográfiai (EUVL) eljáráshoz használt fényforrások fejlesztését.
Mégsem érdekel? Olvasd el ezeket:
Az EUVL használatával a jelenleginél lényegesen kisebb méretű minták hozhatók létre a szilíciumlemezeken, így csökkenthető a félvezető áramkörök mérete, illetve növelhető az adott helyen elhelyezett alkatrészek száma, ami végeredményben nagyobb teljesítményű chipek létrehozását teszi lehetővé.
Az extrém ultraviola litográfia alkalmazásához speciális, 10-70 nanométer hullámhosszúságú fény kibocsátására alkalmas fényforrásra, valamint az ilyen hullámhosszúságú fény visszaverésére alkalmas tükrökre van szükség. A jelenlegi, kísérleti EUVL rendszerek az USA csillagháborús programjának keretén belül kikísérletezett fényforrásokra épülnek.
Az EUVL berendezések és eljárások fejlesztésére vezető chipgyártók 2001 tavaszán létrehozták az EUV LLC konzorciumot, amelynek az Intel mellett többek között tagja az IBM, az AMD, a Motorola, a Micron Technology, az Infineon, illetve a Sandia és a Lawrence Livermoore kutatólaboratórium.
Iparági szereplők korábban arra számítottak, hogy az első EUVL rendszerek már 2007-ben működhetnek, a jelenlegi becslések szerint azonban 2009-nél előbb nem várható az EUVL gyártósorok elterjedése. Az EUVL berendezések eleinte akár tízmillió dollárba is kerülhetnek.
Kapcsolódó anyagok
- Az Intel már a 65 nanométeres csíkszélességű gyártástechnológiát teszteli
- Az IBM kutatói elkészítették a világ legkisebb működő szilícium tranzisztorát
- Az Intel számos gyártástechnológiai áttörésről számolt be
- Áttörés a félvezetőgyártásban: a Princeton egyetem kutatói 10 nanométeres csíkszélességű mintát nyomtattak egy szilíciumlemezre
- A Motorola belehúz: a cég kutatói új chipgyártási technológiákkal rukkoltak elő
